公司簡介： 先進(jìn)電子材料與器件校級平臺（以下簡稱“AEMD平臺”）創(chuàng)建于2012年，是為全校科研工作提供服務(wù)的大型儀器設(shè)備校級共享平臺，具備10nm至微米級微納器件與圖形的加工與測試能。AEMD平臺在學(xué)校各級領(lǐng)導(dǎo)的大力支持下，成為相關(guān)學(xué)科依托發(fā)展的重要支撐力，同時(shí)也為科研工作提供完善的保障。AEMD平臺分別座落于交大閔行校區(qū)微電子大樓一層（西區(qū)）以及綜合實(shí)驗(yàn)樓一層（東區(qū)），實(shí)驗(yàn)室共有近1510m2的100級、1000級凈化室，其中100級210 m2，1000級約1300m2。除此之外，平臺還擁用近250m2非凈化測試加工區(qū)。平臺建設(shè)有一條能對硅、玻璃和有機(jī)材料進(jìn)行微納米加工的3～6英寸半導(dǎo)體級實(shí)驗(yàn)線（西區(qū)實(shí)驗(yàn)室）以及一條3～4英寸非硅/MEMS微納加工實(shí)驗(yàn)線（東區(qū)實(shí)驗(yàn)室），部分設(shè)備可實(shí)現(xiàn)8英寸基片加工。平臺擁有電子束曝光系統(tǒng)、雙束聚焦離子束系統(tǒng)、雙面對準(zhǔn)紫外光刻機(jī)（3臺）、熱壓/紫外納米壓印系統(tǒng)、涂膠顯影系統(tǒng)（3套）、微波去膠機(jī)（3臺）、氧化擴(kuò)散爐（5管，2套）、多晶硅/氮化硅LPCVD爐（2管）、快速熱處理設(shè)備、濕法清洗刻蝕臺（12臺套）、多靶磁控濺射系統(tǒng)（4臺套）、超高真空磁控濺射系統(tǒng)、電子束蒸發(fā)設(shè)備（2套）、離子束濺射機(jī)、離子束刻蝕機(jī)、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備、金屬反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備、介質(zhì)反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備、深硅刻蝕系統(tǒng)（2套）、微電鑄/電鍍系統(tǒng)、OLED器件實(shí)驗(yàn)制備系統(tǒng)、基片拋磨設(shè)備、砂輪切片系統(tǒng)、場發(fā)射掃描電鏡、原子力顯微鏡、半導(dǎo)體參數(shù)測試儀（2套）、霍爾效應(yīng)儀、四探針測試儀、表面輪廓儀（3臺）、紫外膜厚儀等先進(jìn)的微納加工與測試設(shè)備，具備10nm至微米級微納器件與圖形的加工與測試能力。AEMD平臺的創(chuàng)建提高了我校大型儀器的利用水平，并為跨學(xué)科的交叉研究、國內(nèi)外的合作提供了平臺，也為高層次的人才培養(yǎng)提供了良好的實(shí)驗(yàn)基地；平臺也向社會相關(guān)科研機(jī)構(gòu)與企業(yè)公開開放，提供相關(guān)項(xiàng)目合作與微納加工服務(wù)。