ASML、中芯國際雙雙“表態(tài)”：EUV光刻機出貨正常
去年4月，中芯國際向荷蘭ASML公司訂購了一臺EUV光刻機，用于研究7nm及以下的先進工藝?；ㄙM超過1.2億歐元（約10億人民幣），預(yù)計今年底交貨，2020年正式安裝。來自日經(jīng)新聞消息稱，因
光刻機 搜索結(jié)果
7nm+EUV工藝大規(guī)模量產(chǎn)，EUV光刻機銷量有望走高
臺積電近日宣布，已經(jīng)開始了7nm+ EUV工藝的大規(guī)模量產(chǎn)，這是該公司乃至整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)首個商用EUV極紫外光刻技術(shù)的工藝。作為EUV設(shè)備唯一提供商，市場預(yù)估荷蘭ASML公司籍此EUV設(shè)備年
繼半導(dǎo)體材料后，光刻機相關(guān)設(shè)備市場或受日韓貿(mào)易戰(zhàn)影響
在半導(dǎo)體設(shè)備的供應(yīng)商名單中，前15大廠商營收占總產(chǎn)值超過8成，由于半導(dǎo)體制造廠商在設(shè)備選擇上多屬于長期合作模式，因而形成目前半導(dǎo)體設(shè)備廠商大者恒大的態(tài)勢。從全球半導(dǎo)體
科研成果作價入股 國望光學(xué)加快光刻機量產(chǎn)速度
8月14日，記者從經(jīng)開區(qū)企業(yè)北京國望光學(xué)科技有限公司獲悉，其增資項目在北京產(chǎn)權(quán)交易所完成。通過此次增資，國望光學(xué)引入中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所和中國科學(xué)院
北京加快突破光刻機“卡脖子”難題
我國正加速實現(xiàn)中高端光刻機的國產(chǎn)化。近日，亦莊企業(yè)北京國望光學(xué)科技有限公司增資項目在北京產(chǎn)權(quán)交易所完成。通過此次增資，國望光學(xué)引入中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理
國產(chǎn)光刻機的現(xiàn)狀究竟如何？
隨著信息社會的迅速發(fā)展，手機、電腦、電視等各種電子設(shè)備越來越 迷你 ，從之前的 大哥大 到現(xiàn)在僅僅幾個硬幣厚的時尚手機，從老式的矮胖電視到如今輕薄的液晶電視，都不離開集
光刻機的蛻變及專利分析
近兩年，中國芯片產(chǎn)業(yè)受到了嚴(yán)重打擊，痛定思痛之余也讓國人意識到芯片自主研發(fā)的重要性。從2008年以來，十年間，芯片都是我國第一大宗進口商品，進口額遠(yuǎn)超于排名第二的石油。
華虹無錫首批光刻機即將搬入；Q1全球DRAM品牌廠營收排名；粵芯半導(dǎo)體12英寸生產(chǎn)線9月量產(chǎn)
華虹無錫項目聯(lián)合體總包單位十一科技官方消息顯示，5月24日，華虹無錫項目舉行第十一次推進會暨首臺工藝設(shè)備搬入儀式，并進行了華虹七廠授牌儀式。華虹宏力總裁、黨委書記唐均
EUV光刻機研發(fā)挑戰(zhàn)仍存，本土企業(yè)如何突破技術(shù)成本關(guān)?
光刻是芯片制造技術(shù)的主要環(huán)節(jié)之一。目前主流的芯片制造是基于193nm光刻機進行的。但是193nm的光刻技術(shù)依然無法支撐40nm以下的工藝生產(chǎn)，為了突破工藝極限，廠商不得不將193nm液浸技