EUV光刻機(jī)研發(fā)挑戰(zhàn)仍存，本土企業(yè)如何突破技術(shù)成本關(guān)?
光刻是芯片制造技術(shù)的主要環(huán)節(jié)之一。目前主流的芯片制造是基于193nm光刻機(jī)進(jìn)行的。但是193nm的光刻技術(shù)依然無(wú)法支撐40nm以下的工藝生產(chǎn)，為了突破工藝極限，廠商不得不將193nm液浸技
IC設(shè)計(jì)
Diodes完成收購(gòu)德州儀器蘇格蘭晶圓廠GFAB
4月1日，模擬IC廠商達(dá)爾科技Diodes官網(wǎng)宣布，已完成對(duì)德州儀器位于蘇格蘭格里諾克的晶圓制造廠和運(yùn)營(yíng)部門（GFAB）的收購(gòu)。正如此前所述，Diodes將整合Greenock工廠和晶圓廠業(yè)務(wù)，包括將