ASML開發新一代EUV設備 預計2025年量產
為了因應制程微縮的市場需求，全球主要生產EUV設備的廠商ASML正積極開發下一代EUV設備，就是High-NA（高數值孔徑）EUV產品，預計幾年內就能正式量產。
ASML
為什么ASML一年最高產量只有30部EUV？
就在7納米制程節點以下先進制程的領域，必不可少的關鍵就是極紫外線微影（EUV）設備導入。除了三星用在首代7納米LPP制程，臺積電也自2019年開始，將EUV導入加強版7納米+制程。
ASML公布Q1財報，對今年展望不變
全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)18日發布2019年第一季財報。第一季銷售凈額(net sales)為22億歐元，凈收入(net income)3.55億歐元，毛利率(gross margin)41.6%。因邏輯芯片客戶需求強勁