近日，中微公司推出自主研發的12英寸低壓化學氣相沉積(LPCVD)設備Preforma Uniflex™ CW。

Preforma Uniflex™ CW可靈活配置多達五個雙反應臺反應腔（十個反應臺），每個反應腔可以同時加工兩片晶圓，在保證較低的生產成本和化學品消耗的同時，實現更高的生產效率。

該設備配備了完全擁有自主知識產權的優化混氣方案及加熱臺, 具有優秀的薄膜均一性、填充能力和工藝調節靈活性，對于彎曲度較大的晶圓，它也具備良好的工藝處理能力。并可以滿足先進邏輯器件、DRAM和3D NAND中接觸孔以及金屬鎢線的填充應用需求。

中微公司集團副總裁、LPCVD 產品部和公共平臺工程部總經理陶珩表示，自該款LPCVD設備研發立項以來，僅用不到半年時間，公司就完成了產品設計、生產樣機開發和實驗室評價，目前已順利導入客戶端進行生產線核準。

中微公司開發的等離子體刻蝕設備和化學薄膜設備是制造各種微觀器件的關鍵設備，可加工微米級和納米級的各種器件。據悉，中微公司的等離子體刻蝕設備已被廣泛應用于國際一線客戶先進工藝的眾多刻蝕應用，中微公司開發的用于LED和功率器件外延片生產的MOCVD設備已在客戶生產線上投入量產，目前已在全球氮化鎵基LED MOCVD設備市場占據領先地位。