近日，上海新陽在投資者互動平臺上表示，公司用于KRF248nm光刻膠配套的光刻機已完成廠內安裝開始調試，ARF193nm光刻膠配套的光刻機預計12月底到貨。

上海新陽指出，ARF193nm光刻膠是芯片制造進入90nm銅互聯(lián)制程后最重要的主流光刻膠產品，一直是國內空白。公司研發(fā)該款光刻膠意在填補國內空白，實現(xiàn)芯片制造在關鍵工藝技術和材料技術的自主可控。經過近三年的研發(fā)，關鍵技術已有重大突破，已從實驗室研發(fā)轉向產業(yè)研發(fā)。

光刻膠技術作為上海新陽核心戰(zhàn)略突破口，上海新陽已經確定在未來5-10年，將集中各種資源，對國內尚屬空白的各類高端半導體光刻膠和光刻膠配套材料進行研發(fā)，逐步形成公司第三大核心技術-電子光刻技術。

目前，新引進的技術專家團隊已到位，各品類研發(fā)在正常進行，各項關鍵技術均有突破。其中，KRF光刻膠配套的光刻機已完成廠內安裝開始調試，預計明年上半年開始中試。