11月5日晚間，A股上市公司彤程新材(603650)披露光刻膠項目最新進展——公司已經完成ArF光刻膠部分型號的開發，首批ArF光刻膠的各項出貨指標能對標國際光刻膠大廠產品，已具備量產能力等。

彤程新材于2020年12月2日曾公告一則對外投資項目，決定通過全資子公司彤程電子在上海化學工業區投資建設年產1.1萬噸半導體、平板顯示用光刻膠及2萬噸相關配套試劑項目。

如今，彤程新材在最新公告中介紹，上述項目工程階段已竣工，目前已逐步進入試生產階段。公司上海化學工業區工廠占地36200平方米，設計能力年產1千噸半導體光刻膠、1萬噸顯示用光刻膠和2萬噸高純EBR試劑（光刻膠去邊劑）。同時在國際國內半導體廠商及光刻膠廠商戰略合作推動下，完成了產線優化及品控升級。

從公告披露的具體情況來看，半導體光刻膠產能建設方面，公司上海化學工業區工廠年產1千噸半導體光刻膠量產產線，主要包括年產300/400噸ArF及KrF光刻膠量產產線，通過采用超高純PFA（涂層）設備、引入高精度物料流量控制系統、配以自研的高精度高效率光刻過濾系統，可以實現ppt級金屬雜質及0.1um級別的顆粒管控，具備不同配方先進制程光刻膠的生產能力。

半導體光刻膠產品開發及量產方面，主要涉及到兩款產品。其中，在ArF光刻膠產品方面，彤程新材已經完成ArF光刻膠部分型號的開發，首批ArF光刻膠的各項出貨指標能對標國際光刻膠大廠產品，已具備量產能力，目前處于量產前的光刻工藝測試及產品驗證階段，能否驗證通過尚存在一定的不確定性。產能可同時供應國內大部分芯片制造商，能較好地滿足國內先進制程光刻膠的部分需求。

此外，目前，彤程新材稱G線光刻膠已經占據國內較大的市場份額；I線光刻膠已廣泛應用于國內6"、8"、12"集成電路產線，支持的工藝制程涵蓋14nm及以上工藝。KrF光刻膠量產品種達20種以上，穩定供應國內頭部芯片制造商。

在其他電子化學品項目建設及開發方面，彤程新材表示，為了解決ArF光刻膠所需的高純溶劑及國內先進工藝制程的需求，公司已經搭建完成高純EBR裝置，成為國內首家建有高純EBR精餾塔設備及掌握高純精餾技術的本土溶劑供應商。

“公司生產的EBR溶劑已達到G4等級規格，可滿足國內40納米以下工藝制程的芯片制造技術需求，年產2萬噸的規模量產能力可有效滿足國內先進制程需求。預計第四季度將完成高純度G5等級EBR的驗證，已在國內幾家先進芯片制造商中逐步推動產品驗證。”彤程新材指出。

在公告光刻膠項目進展之余，彤程新材亦從客戶認證、市場和原材料方面提示了風險。包括：該項目產品存在客戶認證周期長和認證計劃不確定的風險，能否通過認證尚存在一定的不確定性；項目定位于實現相關材料的國產替代，公司將直接面對國外龍頭廠商的激烈市場競爭等。

定期報告顯示，彤程新材主要從事新材料的研發、生產、銷售和相關貿易業務，目前在中國擁有多家精益制造工廠和國家級實驗室。公司是全球知名的特種橡膠助劑和高端酚醛樹脂生產商，在汽車/輪胎用特種材料方面長期處于國際領導者地位，也是國內半導體和顯示面板光刻膠等電子化學品領先企業。

今年前三季度，彤程新材實現營收約21.96億元，同比增加18.89%；同期實現歸母凈利潤約3.5億元，同比增加45.57%。業績增長主要系公司經營收入穩步增加，以及確認聯營企業投資收益增加。